盛美上海首次推出UltraPmaxPECVD设备，支持逻辑和存储芯片制造

是一家设备供应商，为半导体前端和高级晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案今天，它宣布推出具有自主知识产权的Ultra Pmax等离子体增强化学气相沉积设备，扩展了一个重要的新产品类别盛上海预计将在几周内将其第一台PECVD设备交付给中国的一家IC客户

梅生表示，Ultra Pmax PECVD设备的推出标志着以前的半导体应用进一步扩展到一个全新的工艺领域很多客户都是28nm及以上逻辑器件的供应商，已经预测到中国市场成熟工艺节点产能明显供不应求该PECVD设备将使梅生上海更好地满足全球市场对先进逻辑和存储芯片的需求

本站了解到，梅生的Ultra PmaxPECVD设备配备了具有自主知识产权的腔体，气体分布装置和卡盘设计，可以提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性该设备采用单腔模块化设计，有两种配置:一种是可以配置一到三个腔模块，适用于极薄的膜层或快速工艺步骤，另一个是可以配置四至五个腔模块来支持厚膜沉积和更长的处理时间，同时优化生产率在上述两种配置中，多个加热卡盘安装在每个空腔中，以优化工艺控制并提高生产率

盛上海从事对先进集成电路制造和先进晶圆级封装制造行业至关重要的单晶片和槽湿法清洗设备，电镀设备，无应力抛光设备，立式炉管设备和前线涂胶显影设备的研发，制造和销售，致力于为半导体制造商提供定制化，高性能，低消耗的工艺解决方案，提高其多步生产效率和产品良率。

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